低温镀膜离子装置的作用及其性能分析

hbzhan内容导读：目前国内各款式的多弧真空镀膜机、磁控真空镀膜机，多弧、磁控复合真空镀膜机以及电子束蒸发真空镀膜机（所谓的光学机）等基本上都是采用传统的加热烘烤装置，根据膜层工艺烘烤装置一般加热到200℃至350℃，有时甚至高达600℃，镀膜方式都是在高温状态下进行。

目前国内各款式的多弧真空镀膜机、磁控真空镀膜机，多弧、磁控复合真空镀膜机以及电子束蒸发真空镀膜机（所谓的光学机）等基本上都是采用传统的加热烘烤装置，根据膜层工艺烘烤装置一般加热到200℃至350℃，有时甚至高达600℃，镀膜方式都是在高温状态下进行。这种加热烘烤装置有以下作用：

1、金属制品、玻璃、陶瓷等制品除湿去水。

2、辅助镀膜，适当地提高膜层附着力。

对于金属、玻璃、陶瓷等制品来说倒还起作用,对于塑料、树脂、亚克力等制品很容易热变形，更不用说加温了，一般稍薄的塑胶件60℃左右就变形，厚一点的塑胶件也只能顶到80℃，多弧真空镀膜机以及电子束蒸发真空镀膜机等不开加热烘烤装置温度都要超过80℃。

传统的真空镀膜机镀装饰膜，镀膜方式都是在高温状态下进行才不掉膜，但镀件硬度变软，温度越高硬度降幅越大（如阳江不锈钢刀硬度降幅不允许≥5度，因整个行业镀膜都达不到硬度降幅为0的水平，所以刀具行业没有办法，只能定这个硬度降幅标准了）

传统的真空镀膜机另一弊病都是用转架轰击清洗结构以及霍尔离子源进行轰击清洗及镀膜，这两种装置离化效果远远达不到要求，因此只有用加热烘烤来辅助镀膜进行弥补，适当地提高膜层附着力，加热烘烤本身就不会产生离子效应，提高膜层附着力的幅度是很有限的。

011真空技术工作室发明的新颖镀膜工艺应用技术，在PVD沉积镀膜时提供一种独特的等离子来增强大面积离化效应而实现低温离子镀膜，去掉传统的加热烘烤装置，节电30%以上，镀膜时间节省10%以上，提高工效当然就省钱。

1、本低温镀膜离子装置在镀膜过程中为边镀膜边轰击,而且为大面积离子放电，高能量的离子打入工件表面，使膜层与工件间形成显微合金层，提高结合强度，这样更促进离子辅助镀膜作用,大大地改善膜层的附着力及膜层的稳定性和均匀性,附着力特强。

2、由于离子充分发挥得当,离化效应好,镀制塑料、树脂、亚克力、玻璃、陶瓷等制品很容易镀上膜,而且塑料、树脂、亚克力等制品不易变形，塑料制品不喷涂底漆，直接在塑料制品镀膜。

3、低温镀膜离子装置很容易完成二次辉光或多次辉光。

4、由于低温镀膜,镀件硬度不变，硬度降幅为0（如阳江不锈钢刀及阳江陶瓷刀）。

5、离化效应好,有色金属制品（如铜、铝、锌、镁等）不需水镀直接镀制膜层。

6、发挥离化效应，陶瓷制品表面无论上釉还是不上釉，均可直接镀制膜层。

7、大面积离化效应,水镀都镀不了的汽车烟灰缸在此镀膜机上就很容易镀上膜。

本低温镀膜离子装置属于真空镀膜物理气相沉积（PVD）离化效应技术，是真空表面处理设备中一种新颖镀膜工艺应用技术，装上它不但能大大地改善膜层的附着力及膜层的稳定性和均匀性，又能节电来又省时，一举几得当然是好不过了。